第一百九十四章 四十五纳米工艺突破（3/5）

“这一次采用技术难度更高的S200芯片进行流片测试，也是为了进一步验证我们的技术能力，以及良品率！”

“之前S100测试的时候，我们的良品率还是有些差，为此我们已经进行了大量的改进，这个改进过程里光是专利就申请了三百多种，按照我们的预测，这一次的良品率应该能够达到百分之九十以上！”

芯片工艺里，能造出来只是第一步，然后还要达到非常高的良率，这才具备实际的商用价值。

如果良率太低的话，那么芯片成本就会非常高，缺乏市场竞争力。

徐申学虽然不懂技术细节，但是对这些基本的东西还是有所了解的，他仔细听了后道：“辛苦吴教授了，这都多亏了你，不然我们是没那么快搞定这个四十五纳米工艺的！”

吴德义这个四十几岁的中年人听到这话，却是呵呵一笑：“其实我也要谢谢公司，以前在意法半导体还有其他芯片工厂工作的时候，虽然也获得了一定成就，但是总归是跟在别人后头做事！”

“加入公司后，公司给了我这个大平台，也给了我几乎没有上限的支持，这才能够让我把脑海里诸多以前的想法一一去尝试，然后找出来了成功的路线！”

“我感觉加入公司之后，事业上是更进一步了。”

徐申学听着这话，微微点头……A级科研名额挂在你头上呢，你事业要是不更进一步那就只能证明你是个水货了。

两人说着话的时候，前方的工程师们也完成了诸多前期准备……很多准备工作在半个月前就已经开始了，今天所进行的其实只是最关键的一道工序：光刻！

芯片制造也是个非常复杂的过程，徐申学也不可能在这里待太久一直盯着看，他过来只看最关键的步骤：光刻。

随后，一群人就在外头，隔着玻璃窗看着里头的无尘车间里的进口自荷兰的DUV浸润式光刻机，在工作人员的操控下开始对一片圆晶进行加工。

整个过程，其实看起来相当无聊……没有火花带闪，没有惊天动地，一切似乎都很平静。